行業(yè)應(yīng)用:3S-FS（PLC）臭氧發(fā)生器可針對(duì)礦泉水行業(yè)的臭氧濃度實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，水中臭氧濃度可控制在±0.02ppm范圍內(nèi)，與水處理工藝配合好的情況下，水中臭氧濃度可控制在±0.01ppm范圍內(nèi)（極限可控制在±0.005ppm范圍內(nèi)），有效的保證了礦泉水的品質(zhì)。3S-FS（PLC）臭氧發(fā)生器可針對(duì)管道的臭氧濃度實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制，可與臭氧環(huán)境檢測(cè)儀實(shí)時(shí)聯(lián)動(dòng)，將管道內(nèi)臭氧濃度可實(shí)現(xiàn)10ppm等濃度。
3S-FS系列臭氧發(fā)生器產(chǎn)品特點(diǎn)(1) 西門子PLC智能控制系統(tǒng)采用德國(guó)西門子PLC控制系統(tǒng)，集成數(shù)據(jù)采集模塊、HMI人機(jī)交互界面及多路高精度傳感器，實(shí)現(xiàn)設(shè)備運(yùn)行參數(shù)的全面數(shù)字化監(jiān)控。系統(tǒng)具備臭氧產(chǎn)量精準(zhǔn)線性輸出功能，控制精度高達(dá)±1%，遠(yuǎn)超行業(yè)平均水平（通常為±5%）。(2) HQG非玻璃放電單元采用自主研發(fā)的耐高溫HQG非玻璃結(jié)構(gòu)放電單元，具有以下顯著優(yōu)勢(shì)：- 結(jié)構(gòu)穩(wěn)定性優(yōu)異，使用壽命可達(dá)10年以上- 放電效率提升15-20%，顯著降低運(yùn)行成本- 獨(dú)特的防水設(shè)計(jì)，可有效抵御回水沖擊- 工作溫度范圍寬（-20℃至80℃），適應(yīng)各種惡劣環(huán)境(3) 一體化數(shù)字電源系統(tǒng)創(chuàng)新采用一體化臭氧數(shù)字電源設(shè)計(jì)，具備多重保護(hù)功能（過(guò)壓、過(guò)流、短路、過(guò)熱等），可實(shí)現(xiàn)精確的功率調(diào)節(jié)和設(shè)備控制。該設(shè)計(jì)使系統(tǒng)調(diào)試和維護(hù)更加簡(jiǎn)便，平均故障修復(fù)時(shí)間縮短50%以上。(4) 環(huán)氧樹(shù)脂封裝高壓包高壓包采用環(huán)氧樹(shù)脂真空灌封工藝，具有優(yōu)異的防潮、防塵、抗震性能，可在方潮濕地區(qū)或特殊工業(yè)環(huán)境使用。(5) 智能聯(lián)控接口配備標(biāo)準(zhǔn)4~20mA模擬量信號(hào)接口，可與各類環(huán)境監(jiān)測(cè)設(shè)備實(shí)現(xiàn)智能聯(lián)動(dòng)控制。可實(shí)現(xiàn)臭氧產(chǎn)量的自動(dòng)精確調(diào)節(jié)，確保消毒效果的同時(shí)很大程度節(jié)約能耗。
參數(shù)
名稱 型號(hào) 產(chǎn)量 尺寸（mm） 重量（kg） 功率（W） 冷卻
方式臭氧濃度（mg/L） 電壓 氣源 PLC臭氧發(fā)生器 3S-FS20 30 480x230x730 19 350 水冷 氧氣:
60-150
空氣：
15-30220V
50HZ氧氣99% 3S-FS50 50 400×300×950 26 650 3S-FS80 80 520×370×1150 50 1200 3S-FS100 100 770×500×1200 75 2000 3S-FS120 120 75 2400 3S-FS150 150 85 2600 3S-FS200 200 90 2800 3S-FS250 250 95 3000 3S-FS500 500 770×500×1600 140 4500
PCL界面與內(nèi)部結(jié)構(gòu)圖
臭氧發(fā)生器連接圖
案例現(xiàn)場(chǎng)
A：臭氧在材料表面改性實(shí)驗(yàn)中的應(yīng)用原理（如親水性改善）臭氧在材料表面改性，特別是親水性改善方面，是一種高效且環(huán)保的技術(shù)。其應(yīng)；
Q： 臭氧前驅(qū)體用法：原理、用法與應(yīng)用環(huán)節(jié)
A：臭氧前驅(qū)體用法：原理、用法與應(yīng)用環(huán)節(jié)臭氧前驅(qū)體則作為活性氧源參與薄膜生長(zhǎng)，核心用于原子層沉積（ALD）等薄膜沉積環(huán)節(jié)一、；
Q： 臭氧氧化退火工藝：原理、應(yīng)用環(huán)節(jié)與核心設(shè)備
A：臭氧氧化退火工藝：原理、應(yīng)用環(huán)節(jié)與核心設(shè)備一、原理與用法先利用臭氧強(qiáng)氧化性在低溫下（200-400℃）氧化襯底 / 薄膜；
Q： 從零搭建臭氧實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)：五大核心部件、實(shí)驗(yàn)范例與設(shè)備選型全指南
A：從零搭建臭氧實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)：五大核心部件、實(shí)驗(yàn)范例與設(shè)備選型全指南對(duì)于首次接觸臭氧研究的科研人員或工程師而言，搭建一套安全、可；
Q： 臭氧氣氛提升催化劑載體表面活性研究
A：臭氧氣氛提升催化劑載體表面活性研究一、研究背景與核心價(jià)值1. 行業(yè)痛點(diǎn)：傳統(tǒng)催化劑載體改性依賴高溫處理（通常>50；
Q： 管式爐中臭氧對(duì) SiC / GaN 等寬禁帶半導(dǎo)體的氧化處理
A：管式爐中臭氧對(duì) SiC / GaN 等寬禁帶半導(dǎo)體的氧化處理方法適用領(lǐng)域：功率半導(dǎo)體工藝開(kāi)發(fā)、界面鈍化、器件可靠性與穩(wěn)定；
Q： 臭氧在管式爐 ALD 前驅(qū)體氧化中的應(yīng)用與優(yōu)化流程
A：臭氧在管式爐 ALD 前驅(qū)體氧化中的應(yīng)用與優(yōu)化流程原子層沉積（ALD）技術(shù)因其優(yōu)異的三維共形性、亞納米級(jí)的厚度控制能力，；
Q： 臭氧管式爐生長(zhǎng)高質(zhì)量氧化物薄膜的實(shí)驗(yàn)流程與機(jī)理解析
A：介紹臭氧在管式爐中生長(zhǎng)高質(zhì)量氧化物薄膜的實(shí)驗(yàn)方法與機(jī)理，包括 O? 輔助生長(zhǎng)流程、溫度/濃度/流量參數(shù)、表征方法及安全注；
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Q： 耐臭氧藥物布洛芬的電過(guò)氧化處理：界面反應(yīng)動(dòng)力學(xué)、影響機(jī)制和降
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Q： 催化劑在等離子降解VOCs中的作用機(jī)理研究
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A：臭氧處理絮凝膜濃縮物中OBPs的分子特征和形成研究 垃圾滲濾液是在垃圾填埋場(chǎng)和廢物發(fā)電廠(臨時(shí)廢物掩體)處置城市固體廢物所產(chǎn)生的廢水，其中含有高濃度的有機(jī)物質(zhì)，其成分復(fù)雜。
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